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儀器分析檢測隨機誤差和系統誤差
發布時間：2021-09-01 10:03:20 點擊：5436
不管是什么儀器，X熒光光譜儀，直讀光譜儀等，都會產生一定的誤差，根據誤差產生的原因和性質不同，可分為隨機誤差、系統誤差和過失誤差三類。
隨機誤差
隨機誤差：測量結果在正、負兩個方向偏離真值的誤差。隨機誤差的大小用多次測量結果的彌散程度來表示。隨機誤差又稱偶然誤差。
隨機誤差在每次測量中出現的絕對值和符號是不能予先確定的，然而，對同一樣品同一物理量，在嚴格控制各測試因素變化的條件下，進行多次分析測量，就會發現測量結果一般服從正態分布的統計規律。
隨機誤差反映了測量結果的精密度。
系統誤差
系統誤差：測量結果與真值在一個方問偏離，且具有一定規律性的誤差。
光譜分析中產生系統誤差常見的因素有：試樣與標準樣品在化學組分或組織結構上的不同；標準樣品化學成分的不準確；操作、儀器、器皿、環境的某些參數變動等。總的說來，測量結果因受某個或某些因素的影響，從而產生一個恒定大小及方向的偏離量。因而，對于測量后果是非常嚴重的，所以，一切測量結果都不應存在系統誤差。
對于系統誤差還可以分為兩類，即固定系統誤差和變動的系統誤差。而且，不管那一類系統誤差，都不服從正態分布規律，因而，也不能用確定隨機誤差的方法來判斷和確定系統誤差的存在和大小。
對光譜分析來說，通常真值是未知的，可使用標準物質或標準分析方法等辦法判斷是否存在系統誤差。然而，完全準確的知道系統誤差的確定值也是困難的，這是由于測量結果中隨機誤差的存在和真值的相對性。實際上，在一切測試中是要求將系統誤差減小到相對隨機誤差而言可以忽略不計的程度。對于固定系統誤差來說，常常以大量測試數據的平均值與相對真值的差值來評估有無系統誤差及其大小、方向。
系統誤差反映了測量結果的準確度。上一篇：直讀光譜測量系統誤差與隨機誤差的異同 下一篇：攝譜儀光譜定量分析隨機誤差的來源
